[서울=뉴시스] 김경택 기자 = 대한광통신은 국내 반도체 장비사와 협력해 출원한 '반도체 공정 장비용 대면적 기판 균일 가열 기술'에 대해 특허 등록 결정을 받았다고 29일 밝혔다.

회사 측에 따르면 이번 특허는 반도체 웨이퍼나 대형 패널 기판의 표면 온도를 비접촉 방식으로 측정하고 다수의 레이저 출력을 개별 제어해 대면적 기판을 균일하게 가열하는 기술이다. 중심부와 가장자리의 온도 편차를 실시간으로 보정해 넓은 면적을 빠르고 균일하게 가열할 수 있는 것이 핵심이다.

대한광통신은 국내 반도체 장비사와 협력으로 지난 2024년부터 반도체 장비용 레이저 히터를 개발해 왔다. 광섬유 집광형 고출력 레이저 다이오드를 적용한 10㎾급 레이저 히팅 시스템을 개발했으며, 현재 실제 장비 적용을 위한 검증 작업과 성능 고도화를 진행하고 있다.

특허 기술은 다채널 레이저를 기판의 여러 영역에 동시에 조사하고, 각 채널의 출력을 독립적으로 조절하는 방식이다. 이를 통해 기존 히터의 응답 속도와 온도 균일도 한계를 보완하고 공정 시간 단축과 품질 안정화에 기여할 수 있다고 회사 측은 설명했다.

대한광통신 관계자는 "이번 특허는 회사가 보유한 광섬유와 고출력 레이저 역량을 반도체 장비 분야로 확장한 성과"라며 "10㎾급 레이저 히터를 기반으로 대형화·고적층화되는 기판의 가열 효율과 온도 균일도를 높이고 외산 장비와 경쟁할 수 있는 기술력을 확보해나가겠다"고 말했다.

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